独創的な発想から生まれた、「低インダクタンスアンテナ(LIA)」。
高密度・大面積プラズマの均一生成で、新たなビジネスを創出します。
新しい薄膜材や成膜プロセスの開発に、柔軟にお応えします。
更新情報
トピックス一覧
2017年8月31日
(解放特許情報)L2017001156 不純物活性化方法、半導体装置の製造方法
(解放特許情報)L2017001155 半導体物質の表面改質方法、半導体装置の製造方法
2013年9月18日
Webサイトをリニューアルしました
プラズマプロセス新技術で、ひろがるビジネスフィールド